به گزارش خبرگزاری خبرانلاین داود معروفی مسئول مرکز مالکیت فکری پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان با اعلام این خبر گفت: «ترانزیستور اثر میدانی سیلیسیم بر روی عایق با استفاده از ایجاد چاه حفره ای در زیر کانال» توسط دکتر علی اصغر اروجی عضو هیأت علمی دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر دانشگاه سمنان، زینب رمضانی دانشجوی دکتری این رشته و پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان در اداره کل مالکیت صنعتی و ثبت اختراع به شماره 88270 به ثبت رسید.
دکتر اروجی در توضیح این اختراع گفت: در این اختراع یک ترانزیستور با استفاده از ایجاد یک چاه از جنس سیلیسیم ژرمانیوم نوع P (P-SiGe) در اکسید مدفون ارائه شده است.
این مخترع افزود : هم چنین با استفاده از ویژگی ترکیبی ماده ی سیلیسیم و سیلیسیم ژرمانیوم معایب این گونه ترانزیستورها از جمله اثر خودگرما، ولتاژ شکست پایین و اثر بدنه ی شناور بطور همزمان بهبود داده شده است.
وی تصریح کرد: این ساختار برای اولین بار است که روی ترانزیستور اثر میدانی فلز- نیمه هادی با تکنولوژی سیلیسیم بر روی عایق ارائه شده است و با توجه به مراحل ساخت ساده و مزایایی آن می تواند به عنوان جایگزین مناسب برای ساخت این گونه ترانزیستور ها در تکنولوژی سیلیسیم بر روی عایق پیشنهاد شود.
دکتر اروجی خاطر نشان کرد : از این اختراع می توان در کاربردهای توان بالا و انواع مدارات دیجیتال و آنالوگ مختلف استفاده نمود
«ترانزیستور اثر میدانی سیلیسیم بر روی عایق با استفاده از ایجاد چاه حفره ای در زیر کانال» توسط محققان دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر دانشگاه سمنان با همکاری پارک علم و فناوری این دانشگاه ثبت اختراع شد.
کد خبر 544020
نظر شما